Штукатурный состав LITOPLAN, мешок, 25 кг, LITOKOL

Бренд | Litokol | Материал | Цемент | Назначение | Для влажных помещений / Для помещений с нормальной влажностью |
Тип работ | Для внутренних работ / Для наружных работ | Вес | 25 кг | Цвет | Серый |
Сезонность | Летние (t > 5°C) | Толщина слоя (максимум) | 40 мм | Морозостойкость, F | F25 |
Итого:
.webp)
Доставка
Срок и стоимость доставки рассчитает наш менеджер после оформления заказа!
.webp)
Оплата
Узнать подробнее о доступных способах Оплаты
.webp)
Не нашли нужный товар?
Позвоните нам, если на сайте не нашлось того, что вам нужно. Мы запросим всё необходимое у партнёров-производителей!
Область применения: штукатурные составы
Группа: штукатурки, цементная штукатурка, фасадная штукатурка, теплоизоляционная штукатурка
Характеристики:
LITOPLAN отличают следующие свойства:
- при смешивании с водой образует пластичный тиксотропный раствор, который легко наносится ручным и механизированным способом на вертикальные основания (стены и потолки);
- высокая адгезия с традиционными цементными и минеральными основаниями;
- отсутствие усадки.
Сфера применения:
LITOPLAN — штукатурная смесь на цементно-известковой основе, предназначенная для ручного и механизированного выравнивания стен и потолков, внутри помещений и снаружи, слоем от 3 до 40 мм за одно нанесение, под последующую окраску, оклейку обоями, облицовку плиткой. Рекомендуется для оштукатуривания фасадов выше цокольной части и помещений с любой степенью влажности.
Основания:
LITOPLAN применяется для выравнивания следующих видов оснований:
- для оштукатуривания стен и перегородок из кирпича, керамических блоков, шлакоблоков и т. д.;
- для выравнивания оснований и конструкций из монолитного и сборного железобетона;
- для выравнивания существующих цементных и цементно-песчаных штукатурок;
- для выравнивания вертикальных поверхностей, предназначенных под облицовку керамической плиткой, плитами из каменной крошки, натуральным камнем;
- для выравнивания неровностей и углублений, имеющихся на поверхности бетонных конструкций и оснований.